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            咨詢(xún)熱線(xiàn)

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            • 2024

              3-24

              NXQ4006光刻機是一種先進(jìn)的半導體制造設備,用于在半導體芯片制造過(guò)程中進(jìn)行光刻(photolithography)工藝。光刻是半導體制造中至關(guān)重要的步驟,通過(guò)將光線(xiàn)投射到光刻膠上,再通過(guò)光刻膠的顯影和蝕刻,可以在硅片上形成微米級甚至納米級的圖形結構,從而實(shí)現芯片上的電路、器件等元件的制造。NXQ4006光刻機具有以下特點(diǎn)和優(yōu)勢:1.高精度:采用先進(jìn)的光學(xué)系統和自動(dòng)對焦技術(shù),能夠實(shí)現高精度的光刻圖形轉移,確保芯片制造中微細結構的精準度和一致性。2.高速度:光刻工藝是半導體制...

            • 2024

              2-25

              WS1000濕法刻蝕機是一種用于半導體器件制造和研究領(lǐng)域的關(guān)鍵設備,主要用于在硅片表面進(jìn)行刻蝕和清洗處理。采用濕法刻蝕技術(shù),通過(guò)將硅片浸泡在特定的化學(xué)溶液中,利用化學(xué)反應來(lái)實(shí)現對硅片表面的刻蝕和清洗。在刻蝕過(guò)程中,控制刻蝕液的溫度、濃度、流速等參數,可以精確控制刻蝕速率和刻蝕深度,實(shí)現對硅片表面的精確加工。WS1000濕法刻蝕機的結構特點(diǎn):1.反應池:用于裝載刻蝕液和硅片,實(shí)現刻蝕和清洗過(guò)程。2.溫控系統:用于控制刻蝕液的溫度,確??涛g過(guò)程的穩定性和可控性。3.流量控制系統:...

            • 2024

              1-25

              3850壓實(shí)密度儀是一種用于測量土壤、瀝青、混凝土等材料壓實(shí)程度的儀器。通過(guò)施加一定的壓力,使材料達到一定的密實(shí)度,然后測量其體積和重量,從而計算出材料的壓實(shí)密度。壓實(shí)密度是衡量材料密實(shí)程度的重要指標,對于道路、橋梁、建筑等工程的質(zhì)量有著(zhù)重要影響。3850壓實(shí)密度儀的特點(diǎn):1.結構緊湊,操作簡(jiǎn)便:采用一體化設計,將主機、壓力傳感器、位移傳感器等集成在一個(gè)小型設備中,便于攜帶和操作。同時(shí),儀器配備了大屏幕液晶顯示器,可以直觀(guān)地顯示測量數據和操作提示,使得操作更加簡(jiǎn)便。2.測量精...

            • 2023

              12-24

              NOVASCAN紫外臭氧清洗機是一款高效、環(huán)保的清洗設備,廣泛應用于醫療、食品、飲料、生物制藥等行業(yè)。采用紫外光和臭氧雙重殺菌技術(shù),能夠在短時(shí)間內有效去除各種表面的細菌、病毒、霉菌等微生物,保證生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度和安全性。工作原理是利用高能紫外光對微生物進(jìn)行破壞,使其失去繁殖能力,同時(shí)產(chǎn)生臭氧氣體,進(jìn)一步氧化分解殘留在表面的有機物和無(wú)機物,達到清洗的目的。紫外光的波長(cháng)范圍在200-400納米之間,具有很強的穿透力和殺菌能力,能夠在短時(shí)間內殺死各種微生物。臭氧是一種強氧化劑,具有...

            • 2023

              11-26

              WABASH平板硫化機是一種專(zhuān)業(yè)用于橡膠硫化的設備,廣泛應用于橡膠制品行業(yè)。為一種高效、可靠的橡膠硫化設備,具備高效硫化、穩定性、自動(dòng)化控制和多功能性等特點(diǎn)。它在橡膠制品行業(yè)的汽車(chē)工業(yè)、電力工業(yè)和醫療器械等領(lǐng)域有著(zhù)廣泛的應用。WABASH平板硫化機的特點(diǎn):1.高效硫化:采用*技術(shù)和設計,能夠實(shí)現高效的橡膠硫化過(guò)程。其具有均勻的溫度分布和良好的壓力控制系統,確保橡膠制品在硫化過(guò)程中獲得高質(zhì)量的硫化效果。2.穩定性:采用高品質(zhì)的材料和制造工藝,具有穩定可靠的性能。它能夠長(cháng)時(shí)間運行...

            • 2023

              10-22

              NXQ8000系列掩膜曝光機是一種高精度半導體生產(chǎn)設備,廣泛應用于集成電路、光學(xué)器件、MEMS等領(lǐng)域中。該設備采用了*激光直寫(xiě)技術(shù)和精密光學(xué)系統,能夠實(shí)現高分辨率、高精度的掩模制作,有助于提高半導體芯片的制造質(zhì)量和性能。主要采用激光直寫(xiě)技術(shù)進(jìn)行掩模制作,其原理基于光刻技術(shù)。激光束經(jīng)過(guò)調制和放大后,通過(guò)精密的光學(xué)系統投射到掩模上,控制激光的強度和位置進(jìn)行掩模繪制。通過(guò)多次重復的曝光和顯影步驟,最終得到高精度、高分辨率的掩模。NXQ8000系列掩膜曝光機的特點(diǎn):1.高精度:采用*...

            • 2023

              9-24

              EDC-650顯影機是一種常見(jiàn)的醫學(xué)影像設備,用于對放射學(xué)膠片進(jìn)行顯影處理。它在醫院、診所等醫療機構中廣泛應用,為醫生和放射技師提供清晰的影像結果,輔助他們做出準確的診斷。EDC-650顯影機設備原理與結構:1.外殼:通常采用金屬材質(zhì),具有良好的耐腐蝕性和防護性能。外殼內部設計有適當的開(kāi)口,用于放置和取出膠片。2.X射線(xiàn)源:顯影機配備有X射線(xiàn)源,用于產(chǎn)生高能量的X射線(xiàn)束。X射線(xiàn)源通常由高壓電源和防護裝置組成,可以調節X射線(xiàn)的強度和時(shí)間,以滿(mǎn)足不同類(lèi)型的膠片需求。3.顯影槽:顯...

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