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            • PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機

              PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設計,包括用于反應離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤(pán)電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。

              訪(fǎng)問(wèn)次數:3924
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
              更新日期:2024-05-16
            • PlasmaStar 100/100 RIE反應離子刻蝕機PlasmaStar 100

              反應離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計算機控制,多級程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。

              訪(fǎng)問(wèn)次數:4235
              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
              更新日期:2024-05-16
            • PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統

              PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統擁有多種腔室和電極配置,可滿(mǎn)足不同的等離子工藝和基片尺寸。

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              產(chǎn)品價(jià)格:面議
              廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
              更新日期:2024-05-16
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